半導体製造分野

ICやLSIなどの半導体の微細化に、フォトレジストやフォト
リソグラフィ関連材料・装置による多元的なアプローチで応えます。
多種多様な半導体デバイスにお応えするために、マイクロメートルから最先端のナノメートル領域まで、各種デバイス製造に最適なフォトレジストや関連装置を提供。
フォトレジスト
-
ゴム系ネガレジスト
- OMRシリーズ
-
g線用フォトレジスト
- OFPR®シリーズ
- TSMR®シリーズ
-
i線用フォトレジスト
- TSCR®シリーズ
- THMR®-iPシリーズ
- TDMR®-ARシリーズ
- TSMR®-iNシリーズ
-
KrF用フォトレジスト
- TDUR®-Pシリーズ
- TDUR®-Nシリーズ
- TGMR-DPシリーズ
-
ArF用フォトレジスト
- TARF®-Pシリーズ
-
ArF液浸用フォトレジスト
- TARF®-Plシリーズ
-
EUV用フォトレジスト
-
電子ビーム用フォトレジスト
- OEBR®シリーズ
フォトリソグラフィ関連材料
-
層間絶縁膜
- OCD®シリーズ
-
拡散剤
- PBF®シリーズ
-
保護膜材料
- OFRシリーズ
-
自己組織化材料(DSA)
-
その他材料
- TPF(高純度水溶性樹脂溶液)
-
現像液/剥離液/シンナー